半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

工艺流程/电子行业超纯水设备 

　　1、源水→源水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→阳离子交换器→阴离子交换器→混合离子交换器→微孔过滤器→用水点

　　采用二级反渗透方式制取生产蓄电池用超纯水

　　2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→*级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点[1]

　　采用电去离子EDI方式制取生产蓄电池用超纯水

　　3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

三种工艺比较/电子行业超纯水设备

　　目前制备电子工业超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面：

　　*种采用传统的离子交换树脂其优点在于初次投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。

　　第二种采用反渗透+离子交换设备，其特点为初次投资比采用离子交换树脂方式要稍高，但离子再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。是目前比较经济与流行的一种工艺。

　　第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子装置，这是目前制取超纯水极*，较环保的的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初次投资相对以上两种方式过于昂贵。

　设备特点

电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

应用领域 

　　1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;

　　2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;

　　3、实验室和中试车间用超纯水;

　　4、汽车、家电表面抛光处理;

　　5、光电子产品;

　　6、其他高科技精微产品。