半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子水质技术分为五个行业标准，分别为1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm，以区分不同水质。

工业高纯水设备的工艺流程

电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种：
1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床（复床）→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备，这是一种制取超纯水的**新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→（EDI）泵→保安过滤器→紫外线→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

工业高纯水设备的基本工作原理
ＥＤＩ(Ｅｌｅｃｔｒｏ-ｄｅ-ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ)是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不*,又利用电渗析极化而发生水电离产生Ｈ和ＯＨ离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷,是20世纪80年代以来逐渐兴起的新技术。经过十几年的发展,ＥＤＩ技术已经在北美及欧洲占据了相当部分的超纯水市场。
ＥＤＩ装置包括阴/阳离子交换膜、离子交换树脂、直流电源等设备。其中阴离子交换膜只允许阴离子透过,不允许阳离子通过,而阳离子交换膜只允许阳离子透过,不允许阴离子通过。离子交换树脂充夹在阴 阳离子交换膜之间形成单个处理单元,并构成淡水室。单元与单元之间用网状物隔开,形成浓水室。在单元组两端的直流电源阴 阳电极形成电场。来水水流经淡水室,水中的阴 阳离子在电场作用下通过阴 阳离子交换膜被清除,进入浓水室。在离子交换膜之间充填的离子交换树脂大大地提高了离子被清除的速度。同时,水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子,这些离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持****状态。ＥＤＩ装置将给水分成三股独立的水流:纯水、浓水、和极水。纯水(90%-95%)为**终得到水,浓水(5%-10%)可以再循环处理,极水(1%)排放掉。图2表示了ＥＤＩ的净水基本过程。
ＥＤＩ装置属于精处理水系统,一般多与反渗透(ＲＯ)配合使用,组成预处理、反渗透、ＥＤＩ装置的超纯水处理系统,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。ＥＤＩ装置进水要求为电阻率为0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反渗透装置*可以满足要求。ＥＤＩ装置可生产电阻率高达18ＭΩ·ｃｍ以上的超纯水。
3．ＥＤＩ装置的特点
ＥＤＩ装置不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:
图2.ＥＤＩ的净水基本过程
·连续运行,产品水水质稳定
·容易实现全自动控制
·无须用酸碱再生
·不会因再生而停机
·节省了再生用水及再生污水处理设施
·产水率高(可达95%)
·无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施
·占地面积小
·使用安全可靠,避免工人接触酸碱
·降低运行及维护成本
·设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施
·安装简单、费用低廉
·设备初投资大
4.ＥＤＩ装置与混床离子交换设备比较
ＥＤＩ装置与混床离子交换设备属于水处理系统中的精处理设备,下面将两种设备在产水水质、投资量及运行成本方面进行比较,来说明ＥＤＩ装置在水处理中应用的*性。