半导体清洗较纯水设备水质标准：

半导体芯片清洗较纯水设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、较大规模集成电路需用大量的高纯水、较纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对较纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

半导体清洗较纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(较新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(较新工艺)

半导体清洗较纯水设备应用场合：

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 ☆电子管生产、电子管阴*涂敷碳酸盐配液

☆显像管和阴*射线管生产、配料用纯水

☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

☆高品质显像管、萤光粉生产

☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

☆较纯材料和较纯化学试剂、较纯化工材料

☆实验室和中试车间

☆汽车、家电表面抛光处理

☆光电产品、其他高科技精微产品