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单晶硅等硅材料、集成电路芯片及封装、液晶显示、光电器件、各种电子器件、微电子工业、需用大量的高纯水、较纯水清洗半成品、成品。目前对其清洗和生产的水质精度要求都比较高，电阻度一般要求大于10兆欧/厘米；
其主要工艺如下：
1、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床（复床）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取较纯水的较新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的较纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
