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¥15200赫尔纳供应德国SENTECH光谱椭偏仪
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公司简介:
SENTECH 是德国的“聚合物表面高柔性光学精密层 (FlexCoPas) 研究”项目的一部分。在该项目中,我们已经能够开发出一种设备,该设备可以执行箔片和透镜上的透射测量。
SENTECH光谱椭偏仪主要产品:
SENTECH光谱反射计
SENTECH光谱椭偏仪
SENTECH光谱椭偏仪产品型号:
SENresearch 4.0
SENpro
SENTECH光谱椭偏仪产品特点:
光谱椭偏仪测量单层和多层堆叠的薄膜厚度和折射率。可以分析块体材料、各向同性和各向异性材料、表面和界面粗糙度以及梯度的相关属性。新SENresearch 4.0为 190 nm(深紫外)至 3,500 nm(近红外)宽光谱范围内的光谱椭偏测量而设计。
SENTECH光谱椭偏仪产品应用:
SENTECH光谱椭偏仪每个SENresearch 4.0都是客户定的光谱椭圆偏振解决方案SENresearch 4.0可配置为完整的 Mueller 矩阵、各向异性、SENTECH光谱椭偏仪广义椭圆偏振、散射测量等,SENpro椭偏仪是光谱椭偏仪应用的智能解决方案。它具有一个入射角为 5° 步长的测角仪。简单的操作、快速的测量和直观的数据分析结合在经济高效的设计中,SENTECH光谱椭偏仪用于测量单层薄膜和多层膜的厚度和光学常数。FTIR 椭偏仪SENDIRA具有振动光谱功能。测量红外中分子振动模式的吸收带,SENTECH光谱椭偏仪分析长分子链的取向和薄膜的组成。红外光谱椭圆光度法适用于测量导电薄膜的载流子浓度。SENDURO 的自动光谱椭偏仪包括基于配方的快速数据分析,可在几秒钟内进行。SENTECH光谱椭偏仪椭圆偏振仪的设计易于操作:放置样品、自动样品对准、自动测量和分析、结果。在自动模式下使用光谱椭偏仪适合质量控制和研发中的常规应用。SENDURO MEMS使用光谱反射计和椭圆光度计薄膜堆栈测量。SENTECH光谱椭偏仪晶圆从标准盒中装载,配方进行质量控制测量。在传感器和 MEMS 生产中,通常会加工双面晶圆,并且进行背面保护。光谱椭偏仪软件SpectraRay/4的设计注重直观的工作流程。SENTECH光谱椭偏仪因此,SpectraRay/4包括具有两步操作(开始测量、结果)的配方模式和用于逐步数据分析的交互模式。SpectraRay/4的综合包支持广义椭圆测量、Mueller 矩阵形式、散射测量(3D 轮廓仪)、各向异性和模拟。激光椭偏仪SE 400adv可测量透明薄膜的厚度和折射率,SENTECH光谱椭偏仪具有测量速度快、厚度精度达到亚埃级以及折射率测定精度达到的特点。CER 椭偏仪SE 500adv将激光椭偏仪和反射仪结合在一个系统中。这种组合可实现零度反射测量,SENTECH光谱椭偏仪以实现快速薄膜分析,并通过激光椭偏仪的亚埃级精度对透明薄膜进行明确的厚度测定,将可测量厚度范围扩SENTECH光谱椭偏仪展至 25 µm。光谱反射计RM 1000/2000 的光谱范围为 200 nm – 930 nm 的 UV 至 NIR。光学布局对光通量进行了优化,使在粗糙或弯曲的表面上也能测量 n 和 k。SENTECH光谱椭偏仪高度和倾斜调整可实现准确的单光束反射率测量,具有快速的厚度测量功能。测量时间不到 100 毫秒,精度低于 0.3 nm,膜厚范围为 50 nm – 25 µm。SENTECH光谱椭偏仪包含多种预定义配方,可进行光谱反射测量操作。