生产型设备次大气辉光放电处理机（HPD-2400）
  次大气压下辉光放电的视觉特征呈现均匀的雾状放电，放电的电流电学特征为单脉冲，放电温度为室温。次大气压辉光放电可以处理各种高分子材料、生物材料、金属材料、纺织品材料、异型材料。设备成本低、处理的时间短、可加入各种气氛，气氛含量高、功率密度大、处理效率高。可应用于表面聚合、表面接枝、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成及各种粉、粒、片材料的表面改性和的表面处理。电子和离子的能量可达10eV以上。材料批处理的效率要高于低气压辉光放电10倍以上。
主要应用于表面清洗、改善复合材料粘附性、细胞培养皿,组织培养皿的亲水、心脏*、生物传感器的表面处理。　
　　规格：
　　1、型号：HPD-2400；
　　2、电源：三相AC380V（±10％）
　　3、功率：1000VA；
　　4、电极尺寸：300mm×450mm；
　　5、设备尺寸：720（W）×1360（H）×765（D）mm
　　6、设备重量：180kg
　　7、腔体压力：500～3000Pa

用途：

1. 酶标板、细菌计数培养皿、细胞培养皿、组织培养皿的亲水处理。经过等离子体处理后细菌培养皿表面由疏水变为亲水,并获得支持细胞黏附铺展的能力.并适用于细胞培养。等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证，处理过的样品表面*被水润湿。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的处理
3. 等离子清洗、刻蚀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。