*高速研磨分散机性能特点

CMO 2000系列*湿法研磨粉碎机突破传统意义上的砂磨机，是技术上的进一步革新。*的粉碎效果源自硬质*的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各级刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨*的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：*湿法研磨粉碎机CMO2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形*间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无级调节。*的粉碎效果亦源于硬质*的表面结构。*表面含高质材料，如：金属碳化物或不同粒径的陶瓷。因此*在强力剪切区域内被保护，防止损耗和撕破。在高粘度情况下，将锥形*适当调低同样可以进行加工。

  研磨头的表面涂上了一层ji其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

CMO2000系列*湿法研磨粉碎机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

CM2000型胶体磨为单磨头研磨结构，更倾向于对硬性物料的研磨，而ERS2000型设备为三级定转子结构，更倾向于对已研磨细的物料进行分散，而CMD2000型设备为CM胶体磨与ERS分散机组合而成的二级研磨分散结构，CMD2000型的设备缩短了CM2000型与ERS型串联的管道距离，这样就可以使物料在经过CMD2000型设备的一级结构胶体磨精细研磨后瞬间通过二级结构的分散盘超高速分散，这样就可以在精细研磨后的物料还未来得及抱团返粗的时候就将物料进行超高速分散（如用管道对CM2000型设备与ERS2000型设备串联，就加长了物料在管道的停留时间，特别容易抱团返粗），*分散到相应的溶剂中，这样可以使物料打的更细分散的更好

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