镀膜工艺气体监测质谱仪 SPM 220
上海海伯东德国普发 Pfeiffer 真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了解决方案. 搭配 HiPace 涡轮分子泵组和专门开发的镀膜工艺监测器离子源, 在高达 10-2 hPa 的压力下, 实现了精确到分钟的工艺气体分析. Pfeiffer 同时提供一个带有压差孔板法兰的型号供选择, 可以实现在高达 10 hPa 的压力范围里进行直接的工艺气体分析.

镀膜工艺气体监测质谱仪 SPM 220​ 优势
用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源
用于 H2, O2, H2O 和 CO2 的优秀检测限
对测量结果的最小化背景影响
提供压力高达 10 hPa 的压差型号
多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
灵活集成的紧凑尺寸
通过各种数字和模拟输入和输出, 使系统集成方便而灵活

镀膜工艺气体分析仪 SPM 220 应用
半导体生产,玻璃镀膜, 薄膜太阳能电池发电,研发

镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220 组成：涡轮分子泵+四级杆质谱+离子源

镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220 优势：
镀膜工艺监测器离子源，适用于瞬时过程监测
对气体H2、O2、H2O 和 CO2 优秀检测极限
对测量结果的最小化背景影响
压力高达 10 hPa 的压差版本
多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
紧凑设计，易于系统集成
通过各种数字和模拟输入和输出
Pfeiffer监测质谱 SPM 220 技术参数：