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磁屏蔽材料
基本原理
当磁场的频率很低(工频或100KHz以下)时,传统的屏蔽方法几乎没有作用。低频磁场一般由马达、发电机、变压器等设备产生。这些磁场会对利用磁场工作的设备产生影响,如阴极射线管中的电子束是在磁场的控制下进行扫描的,当有外界磁场干扰时,电子束的偏转会发生变化,使图像失真。
低频磁场的屏蔽是使用铁磁性材料将敏感器件包起来。屏蔽的作用是为磁场提供一条低磁阻的通路,使敏感器件周围的磁力线集中在屏蔽材料中,从而起到屏蔽的作用。
设计中的一个关键是选择一种材料既能提供足够的屏蔽效能,又不至于发生饱和。当要屏蔽的磁场很强时,一层屏蔽可能满足不了要求,这时可以采用多层屏蔽。多层屏蔽的原理是先用导磁率较低,不易饱和的材料将磁场衰减到一定的程度,然后再用磁导率很高(通常容易发生饱和)的材料进行进一步衰减。因此低导磁率的材料应靠近干扰源。
*的封闭体能够提供理想的磁屏蔽效果。但在实践中,不封闭的结构,如五面体或更少面的结构,甚至平板也能提供满足要求的屏蔽效能。当使用平板时,应使平板体的长度和宽度大于干扰源到敏感源之间的距离。由于材料的磁阻与屏蔽结构的尺寸有关,因此除了选用合适的材料以外,尽量缩短磁路的长度、增加截面积也能增加磁屏蔽效能。
磁屏蔽材料特性
CO—NETIC和NETIC材料是两种特殊的磁屏蔽材料。CO-NETIC材料具有*的导磁率,可以有效衰减低频磁场干扰,达到*磁场屏蔽,NETIC材料有*的抗磁饱和能力,能在强磁场产生一定衰减。
物理与磁特性
技术参数 | CO-NETIC AA | CO-NETIC AA | CO-NETIC B | NETIC S3-6 |
*退火 | 压力退火 | 压力退火 | 压力退火 | |
密度 | 8.74 | 8.74 | 8.18 | 7.86 |
膨胀系数,per ℃ x 10-6 | 12.6 | 12.6 | 8.3 | 13.7 |
拉伸强度,PSI x 103 | 64 | 85 | 80 | 42 |
屈服应力,PSI x 103 | 18.5 | 33 | 27 | 27 |
弹性模量,PSI x 106 | 25 | 30 | 24 | 30 |
硬度,Rockwell B | 50 Ref. | 70 Ref. | 68 Ref. | 50 Ref. |
2英寸伸长率(百分比) | 27% | 32% | 32% | 38% |
熔点 | 2650oF1454℃ | 2650oF1454℃ | 2600oF1427℃ | 2790oF1532℃ |
导热性(cal/sec/cm2 /cm/℃) at 20℃ | .138 | .138 | .037 | .118 |
电阻 ohms/cir mil-foot | 330 | 330 | 290 | 64 |
微欧姆-厘米 | 55 | 55 | 48 | 11 |
饱和感应(高斯) | 8,000 | 8,000* | 15.000* | 21,400 |
起始磁导率 | 30.000 | 30,000* | 8,000* | 200 |
磁导率 at 40 B | 75,000 | 75,000* | 12,000* | 300 |
磁导率 at 200 B | 135,000 | 135,000* | 30.000* | 500 |
zui大磁导率 | 450,000 | 45,000* | 150,000* | 4.000 |
磁感应 at μ max | 3.000 | 3,000* | 7,000* | 8.000 |
抗磁力 Hc,奥斯特 | .015 | .015* | .05 | 1.0 |
居里温度 | 850oF 454℃ | 850oF 454℃ | 840oF 449℃ | 1420oF 770℃ |
zui低工作温度 | 4oK | 4oK | 4oK | 4oK |
a,Stress Annealed(压力退火处理)的材料在加工完毕后,为了获得良好的屏蔽效能,要再进行退火处理。
b,Perfection Annealed(*退火处理)的材料只要在加工过程中没有激烈的成型和拉伸,加工完毕后不需要再退火。
c,尺寸:压力退火处理的材料:1524mm,762mm,381mm。
*退火处理的材料:737mm,356mm。