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头孢塞污钠研磨分散机,头孢塞污钠高速研磨分散机,头孢塞污钠超高速研磨分散机,头孢塞污钠三级研磨分散机,头孢塞污钠高剪切研磨分散机,头孢塞污钠管线式研磨分散机,头孢塞污钠在线式研磨分散机,头孢塞污钠纳米级研磨分散机
{别名}
*、氨噻肟*、*、西孢克拉瑞、 *、塞福隆;*;凯帝隆; 氨噻肟头孢 菌素钠;*;* 、先锋龙
【外文名】Cefotaxime Sodium , Claforan, CTX,Ceforan, HR-756, Zariviz
【作用与用途】
本品第三代半合成*,抗菌谱比*广,对革兰阴性菌的作用更强,但对阳性球菌不如第代与第二代*对绿脓杆菌与厌氧菌仅有低度抗菌作用.抗菌谱包括嗜血性流感杆菌、肠杆菌、沙门杆菌克雷白产气杆菌属及奇异变形杆菌、奈瑟菌属、葡萄球菌、肺炎球菌、链球菌等。临床上主要用于各敏感菌的感染,如呼吸道、五官、腹腔、胆道、脑膜炎、淋病、泌尿系统感染、皮肤软组织感染、创伤及术后感染、败血症等。
【用法用量】
1.肌注或静注,大人,中等度感染,1g/次,1次/12小时;严重感染8g~12g/日,分3~4次;儿童每日100mg~150mg/kg,分2~4次;新生儿每日50mg/kg,分2~4次。本品亦可供静滴,宜用1g~2g溶于生理盐水或*中稀释,在20~60分钟内滴注完毕。
2.肌内注射:大人一次0.5~1g,每日3~4次。静脉滴注:(药典规定静脉滴注一日2~3g)临床常用每次1~2g,每日3~4次,必要时每4小时一次。
小儿:每日50~100mg/kg(体重),分3~4次给药。
头孢塞污钠研磨分散机NKD2000系列研磨分散设备是shsina(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
NKD2000系列的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
技术参数
型号 | 标准流量 | 输出转速 | 标准线速度 | 马达功率 | 进出口尺寸 |
NKD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 3000 | 4200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
NKD2000/20 | 8000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 20000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 60000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |