资讯中心

三星已开始使用极紫外光刻技术量产14纳米DRAM芯片

来源:TechWeb.com.cn
2021/10/13 11:08:13
20561
导读:10月12日消息,据国外媒体报道,存储芯片制造商三星电子宣布,它已开始使用极紫外光刻技术量产业界最小的14纳米DRAM芯片。
  10月12日消息,据国外媒体报道,今日,存储芯片制造商三星电子宣布,它已开始使用极紫外光刻(EUV)技术量产业界最小的14纳米DRAM芯片。
 
  三星电子表示,EUV技术减少了多图案绘制中的重复步骤,提高了图案绘制的准确性,从而提高了性能和产量,缩短了开发时间。
 
  利用最新的DDR5标准,三星14纳米DRAM将帮助解锁前所未有的高达7.2Gbps的速度,这是DDR4速度(3.2Gbps)的2倍多。
 
  该公司表示,即将开始量产DDR5,并预计最新工艺将使生产率提高20%,功耗降低近20%。
 
  据悉,三星是全球最大的存储芯片和智能手机制造商之一。在近日举办的晶圆代工论坛上,该公司宣布,将从2025年开始量产2nm芯片,并计划从2022年上半年开始生产客户设计的3nm芯片,第二代3nm芯片预计将在2023年生产。
 
  (原标题:三星已开始使用极紫外光刻技术量产14纳米DRAM芯片)

热门评论

上一篇:特斯拉部署首座Megacharger充电站 可为Semi卡车充电

下一篇:联发科新一代天玑芯即将冲击高端市场 基于台积电4nm工艺

相关新闻

<