三星打造17nmLPV工艺：28nm＋14nm二合一
- 来源：快科技
- 2021/10/8 9:24:47
- 23438
半导体工艺不只是前沿的7/5/3/2nm，因为还有很多芯片并不需要太前沿的制程，它们往往不太复杂，但对成本非常敏感。
10月7日，三星宣布推出全新的17LPV 17nm工艺，意为Low Power Value。
其实，它就是28nm工艺的进化版，融合了28nm BEOL后端工序、14nm FEOL前端工序，也就是在28nm节点的基础上，加入了14nm FinFET立体晶体管，只需不高的成本，就能享受后者的能效优势。
三星称，17nm LPV工艺相比传统28nm，芯片面积可缩小43％，可以带来39％的性能提升或者49％的能效提升。
三星17nm LPV工艺的量产时间没有说，但三星已经宣布第一个服务对象是ISP图像信号处理器，属于三星自家的CMOS传感器产品线。
此外，三星还打造了14nm LPU工艺，意味Low Power Ultimate，但未透露详情，可能也是28nm BEOL加上14nm FEOL。
(原标题：三星打造17nm LPV工艺：28nm+14nm二合一)
版权与免责声明：凡本网注明“来源：智能制造网”的所有作品，均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-智能制造网合法拥有版权或有权使用的作品，未经本网授权不
展开全部
热门评论