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北京路业通达材料科学研究所研制的UNIPOL160D小型双面自动抛光机是一种高精度双面研磨和抛光设备. 它能同时对4片zui大2" 的基片进行双面研磨和抛光, 销售专员：郭英   ：并获得 在 直径2"区域内TTV 小于1um .所以它是 一台在实验室抛ISi, Ge 和氧化物单晶基片的理想工具。

1、研磨盘尺寸: 225（外径） x  94（内径） x 15（厚度）mm

2、上磨盘的重量及配重: 5.5kg （3kg 配重）

3、游行轮规格: z=54 m=1.5  dia.81mm （环氧）

4、 游行轮zui多使用数量: 4

5、zui大加工基片尺寸: dia. 60mm

6、 平面度和平行度: 0.001mm

7、研磨和抛光精度: +/-0.001mm

8、 表面质量: > grade 10

9、输入电源: 单相  AC 220v

10、电机: DC110V/600W/0~1500rpm 可调