Saphir Vibro 振动抛光机
产品简介
详细信息
Saphir Vibro 振动抛光机为得到无残留变形的制备表面而设计,是用于进一步材料表征,如 EBSD(背散射电子衍射),AFM (原子力显微镜)分析和纳米压痕或显微硬度测试的理想前序设备。
■ 特 点:
可快速更换的带磁性系统的抛光池
从 60-120 Hz 的自动频率控制
“Surface-Guard” 功能降低试样磨料结晶和试样表面腐蚀的机率
预先安装好的制备方案和耗材清单
低工作噪音和吸振式结构设计
软闭合式防护罩和排气接口
可存储多达 200 个制备程序
■ 参 数:
抛光池内径 | Ø 308 mm (抛光布直径 Ø300 mm or Ø305 mm) |
振动频率 | 60 - 120 Hz |
接口 | USB, Ethernet |
连接电源 | 0.25 kVA |
运行功率 | 135 VA |
宽 x 高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 | ~ 45 kg |
Saphir Vibro.pdf