辉光放电发射光谱仪（GD-OES）
产品简介
详细信息
●射频发生器是 E 类标准，对稳定性和溅射坑形状都进行了优化以满足实时表面分析。
●射频源可以分析传统和非传统镀层和材料，对于易碎样品，还可以使用脉冲式同步采集优化测试。
●从 110nm到 800nm 同步全光谱覆盖，包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。
HORIBA 研发的离子刻蚀型全息光栅具有高的光通量和光谱分辨率，光学效率和灵敏度都表现优良。
●HDD 探测器兼具检测速度和灵敏度。
●内置的微分干涉仪DIP可实时测量溅射坑深度和剥蚀速率。
●宽敞简洁的大样品仓易于装卸样品，操作简单。
●QUANTUM™ 软件配置了Tabler 报告编写工具。
●激光中心定位装置（正在申请）可定位样品测试位置。
HORIBA 的辉光放电光谱仪可以选配单色仪，实现n+1元素通道的同时也提高了设备的灵活性。
配置
