HORIBA GD-Profiler 2射频辉光放电光谱仪 GD-OES
产品简介
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脉冲射频辉光放电光谱仪—可超快速进行薄/厚膜的深度剖析
在过去的15年中，HORIBA Scientific不断与*的等离子体镀层研究组织进行跨领域合作，使得HORIBA Scientific的辉光放电光谱仪性能得到了大幅度提升。如今，辉光放电技术已能够很好地用于表征描述材料的特性，同时行业也建立了相应的ISO标准。
HORIBA Scientific研发的脉冲射频辉光放电光谱仪可以用于薄/厚膜中的深度剖析：元素的浓度、变化趋势以及镀层厚度，它的测量深度可以从表面几纳米达到150微米以上。同时，脉冲射频辉光放电光谱仪还具备很好的深度分辨率，可达1nm以下。这使得大家在进行薄膜分析时，可以很清晰地看到每一层元素的变化及界面的信息。这将有助于我们获取更多样品信息，从而改进生产工艺、提高产品质量等。
如今，脉冲射频辉光放电光谱仪已被广泛应用于各个研发、分析及生产领域，如纳米尺度及纳米尺度以上镀层的新材料发展、涂漆车体上腐蚀的起源研究、稀有金属的成分评估、工业上监控光伏器件的生产、硬盘或LED的生产控制以及锂电池改进等。